台积电官宣向学界开放业界最成功的 16nm FinFET 技术使用

IT之家 2 月 3 日消息，台积台积电官网宣布推出大学 FinFET 专案，电官目的宣向学界在于培育未来半导体芯片设计人才并推动全球学术创新。此专案开放大学院校师生与学术研究人员使用业界最成功的开放鳍式场效应晶体管（FinFET）技术之制程设计套件 （PDK），将其芯片设计学习经验提升至先进的业界 16nm FinFET 技术。IT之家了解到，最成此专案也提供大学院校领先的技术芯片研究人员使用 16nm （N16） 及 7nm （N7） 制程之多专案晶圆（Multi-Project Wafer，MPW）服务，使用将具有影响力的台积创新研究加速导入实际应用。

台积电公司与亚洲、电官欧洲、宣向学界及北美的开放服务伙伴携手合作，提供大学院校以下资源以支持教学用途及测试芯片之研究专案：

作为业界最完备且充满活力的业界设计生态系统，开放创新平台（Open Innovation Platform）全力支持台积电公司的最成技术与生产制造。台积电公司设计生态系统服务伙伴已准备就绪和参与大学 FinFET 专案的技术学者建立联系。